《CNBC》周四 (22 日) 報(bào)導(dǎo),荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備大廠艾司摩爾 (ASML)(ASML.US) 耗時(shí)近十年打造的新一代高數(shù)值孔徑極紫外光曝光機(jī) (High-NA EUV),正在悄悄重塑全球晶片製程。這臺(tái)全球最先進(jìn)、造價(jià)超過 4 億美元的晶片製造機(jī)器,體積堪比雙層巴士,目前已進(jìn)入實(shí)際量產(chǎn)階段,服務(wù)臺(tái)積電 (TSM.US) (2330-TW)、三星與英特爾 (INTC.US) 等全球頂尖晶圓廠。
High-NA 是艾司摩爾極紫外光 (EUV) 設(shè)備的新一代版本,其中「NA」代表「數(shù)值孔徑」(Numerical Aperture),意味著其鏡頭開口更大,能捕捉更多光線,以更高解析度描繪晶片電路?!禖NBC》近期獲獨(dú)家邀請參觀艾司摩爾位於荷蘭費(fèi)爾德霍芬的實(shí)驗(yàn)室,這也是該設(shè)備首度對外曝光,連艾司摩爾自家團(tuán)隊(duì)都從未拍攝過。
艾司摩爾表示,組裝一臺(tái) High-NA 系統(tǒng)須動(dòng)員美國康乃狄克州、加州、德國與荷蘭四地模組,最終送回荷蘭總部測試,再拆解運(yùn)往客戶端。運(yùn)送規(guī)模驚人,需動(dòng)用七架波音 (BA.US) 747 或 25 輛卡車。首批商業(yè)安裝地點(diǎn)是英特爾位於美國奧勒岡州的晶圓廠,全球目前僅五臺(tái) High-NA 正式出貨。
相較上一代 EUV 機(jī)種,High-NA 的解析度更高、製程步驟更少,可顯著提升良率與生產(chǎn)效率。英特爾表示,已用 High-NA 生產(chǎn)約 3 萬片晶圓,可靠性為前代機(jī)種的兩倍。三星則指出,High-NA 可讓製程週期縮短 60%,大幅提高每秒運(yùn)算量。
艾司摩爾技術(shù)副總裁 Jos Benschop 解釋,High-NA 可在一張晶圓上投射更多電路,避免過去需多次重複曝光的「多重圖樣」技術(shù),進(jìn)而提升速度與良率。他表示:「High-NA 的核心價(jià)值在於電路微縮與簡化製程?!?/p>
艾司摩爾執(zhí)行長???(Christophe Fouquet) 則強(qiáng)調(diào),隨著人工智慧 (AI) 晶片需求激增,業(yè)界亟需在降低功耗與提高效率間取得平衡。他指出,艾司摩爾自 2018 年以來已將每片晶圓的耗電量降低超過 60%。
High-NA 為 EUV 技術(shù)的延伸,EUV 光波長僅 13.5 奈米,是深紫外光曝光機(jī) (DUV)(193 奈米) 的升級(jí)版本。艾司摩爾是全球唯一可商業(yè)化 EUV 的公司,使用特殊鏡面反射極紫外光來描繪晶片圖樣,光源來自以雷射轟擊熔融錫產(chǎn)生的高能等離子體。
目前美國出口管制禁止艾司摩爾對中國出售 EUV 設(shè)備,僅允許銷售 DUV 機(jī)種。2024 年中國仍占艾司摩爾營收比重達(dá) 49%,主因是清空先前積壓訂單。艾司摩爾預(yù)期,2025 年中國業(yè)務(wù)將回落至 20%–25% 的歷史常態(tài)區(qū)間。
福克表示,中國短期內(nèi)自行開發(fā) EUV 機(jī)器的可能性不高,當(dāng)前僅能透過 DUV 技術(shù)製造中階晶片。美方對 AI 晶片外流中國的疑慮,使出口限制日益嚴(yán)格。
艾司摩爾表示,隨著 High-NA 出貨量提升,公司正在美國亞利桑那州設(shè)立首座培訓(xùn)中心,預(yù)計(jì)數(shù)月內(nèi)開幕,年培訓(xùn)人數(shù)達(dá) 1,200 人,將涵蓋 EUV 與 DUV 操作訓(xùn)練。??吮硎荆骸高@項(xiàng)設(shè)施不僅供應(yīng)美國所需,也將培育全球 EUV 專才。」
除了臺(tái)積電在美擴(kuò)廠外,英特爾位於俄亥俄州與亞利桑那州的新廠也被視為 High-NA 的潛在主要用戶。儘管英特爾近年競爭力下滑,??藦?qiáng)調(diào)英特爾仍是「極為關(guān)鍵的合作夥伴」,對美國半導(dǎo)體自主性具戰(zhàn)略意義。
展望未來,艾司摩爾正著手研發(fā)下一代「Hyper NA」機(jī)種,福克表示該產(chǎn)品預(yù)計(jì)在 2032 至 2035 年之間推出,目前已有初步光學(xué)設(shè)計(jì),但尚未決定售價(jià)。
(美股為即時(shí)串流報(bào)價(jià); OTC市場股票除外,資料延遲最少15分鐘。)新聞來源 (不包括新聞圖片): 鉅亨網(wǎng)
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